スパッタリング装置

メーカー	キヤノンアネルバ
型番	E-400S
年式	2007
カテゴリー	半導体中古装置（前工程）, 成膜装置, スパッタリング装置
ウェハーサイズ	4inch
仕様（日本語）	最大成膜エリア:φ200mm 基板加熱:Max300℃ ターゲット:φ4型プレーナーマグネトロンカソード4基付属ロータリーポンプ(adixen　2033SD）付属チラー:SMC(HRS024-A-20-BT) 電源:三相AC200V　50/60Hz　100A
管理番号	K029-0001

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