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超高真空ECR-CVD装置

管理番号K004-0010
メーカーキヤノンアネルバ
型番ECR-CVD
年式2002年式
カテゴリーCVD
ウェハーサイズ 2inch, 4inch
仕様(日本語)"基板交換にはロードロック機構を用いる。
トレー表面温度にてMAX400℃(安定度:300℃±3℃
ECRイオン源
ガス導入系:使用ガスN2,O2 成膜室:使用ガスSiH4"
売却済

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