スパッタリング装置
| メーカー | キヤノンアネルバ |
|---|---|
| 型番 | E-401S |
| 年式 | 2007.12 |
| カテゴリー | 半導体中古装置（前工程）, 成膜装置, スパッタリング装置 |
| シリアル番号 | EVP-52391 |
| 仕様（日本語） | 基板加熱最高温度：300℃ トレイ： 4インチ基板トレイ 角トレイ：140×140mm （最大８インチまで加工可能） SP室 到達圧力：3×10⁻⁵Pa以下 TR室 到達圧力：10⁻⁴Pa台 CS室 到達圧力：10Pa以下 ガス：Ar ,N₂,O₂ 測定基板：8インチ 電源：3相 200V±10% 100A 50/60Hz 本体サイズ： 2500×2000×2200mm 本体重量：約2000㎏ ロータリーポンプ重量：約91kg（28kg＋63kg） チラー 1台 ロータリーポンプ 2台 |
| 管理番号 | K080-0001 |
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